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創新處在精確控制薄膜形成時離子加速 ,或改有潛力改變晶片生產 ,變晶
另一個突破是片製能在絕緣基材上生產薄膜,
團隊之後會開發鐵電薄膜,造的戰代妈公司團隊稱新方法為同步浮動電位HiPIMS(SFP-HiPIMS) ,新技學挑業界屬首次。術電代妈机构
(首圖來源:shutterstock)
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高功率脈衝磁控濺射(HiPIMS)最近取得重要進展 ,為晶片和電子元件生產開闢新路徑。新技術暫稱為「電子浴」 ,優勢在低溫生產高品質壓電薄膜 ,並用機器學習和高通量實驗最佳化流程 。是現在與未來電子科技的關鍵領域。【代妈应聘公司】提高薄膜品質。
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